日本依存していた「半導体材料」の国産化に成功…「レベルより優秀」
日本から全量を輸入してきた半導体工程コーティング素材を政府出資の研究機関と中小企業が国産化に成功した。29日、国家核融合研究所（核融合研）は、微粉末の状態でも凝集しない溶射コーティング素材「酸化イットリウム（Y₂O₃）」を溶射コーティング専門業者セウォンハードフェイシングと最初に製造した。
酸化イットリウムは、半導体プロセス装置に必要な素材で、これまで国内の半導体メーカーが日本から輸入して使っている。
溶射コーティングは、粉末状態の材料を半導体部品の表面に噴射して覆う技術である。製品の耐熱・耐久性を向上させるプロセスである。
韓国で製造された酸化イットリウムは、核融合研のプラズマ技術を適用した。
核融合研は国産酸化イットリウム製品レベルは日本よりも優れていると説明した。粉末同士押し出す反発力が生じ、凝集されず、流れを良くすることができ、緻密で均一なコーティング膜を形成するのに粒子の大きさや流動性側面から日本産を乗り越えたのである。
国核融合研究所ホン・ヨンチョル博士は「プラズマ技術は、半導体工程以外にも様々な素材産業で活用することができる」とし「これを活用した素材技術の国産化の研究を継続する計画だ」と語った。
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Source: かんこく！韓国の反応翻訳ブログ
