「半導体素材、我々の手で」…SK、ハードマスクも「脱日本」を準備
工程微細化でハードマスクの需要↑…SKマテリアルズ、最近開発に着手
SKグループが「半導体素材の自立化」に一歩ずつ近づいている。 系列会社別に主要素材の開発や生産ラインの構築が盛んに行われている。 成果が次々に表れる中、新たな領域も開拓している。
19日、業界によると、SKマテリアルズはハードマスク（SOC）の開発に着手した。 今月から量産に突入した超高純度フッ化水素（HF）ガスの次の走者だ。
SOCは半導体の露光工程に使われるフォトマスクの補助材料だ。 半導体はシリコンウェハーの上にパターンの描かれたフォトマスクを置き、光を照射して回路を刻む。 この過程でSOCはパターンの崩壊を防ぐ「盾」の役割をする。 工程の微細化で露光の勢いが強まり、SOC需要は増えている。
SKマテリアルズは今年2月、錦湖石油化学電子素材事業を買収し、SOC市場への進出を推進することになった。 従来の錦湖石油化学の生産ライン設備をアップグレードし、開発作業を続ける計画だ。 日本のHOYAなどが主導していた分野を国内メーカーに代替できるという点で意味がある。
SKマテリアルズは、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）フォトレジスト事業も準備している。 2021年に生産施設を竣工し、2022年から年5万ガロン規模の量産が目標だ。 フォトレジストは、日本輸出規制当時に含まれた核心品目のひとつだ。 半導体業界では素材技術力を備えたSKマテリアルズが次世代製品の極紫外線（EUV）フォトレジストも1-2年内に生産できるとみている。
SKCやSKシルトロンなども、素材供給網の構築に同行している。 SKCは、日本への依存度の高いハイエンド級ブランクマスクの試作品を、国内需要企業とテストしている。 下半期に本格的な量産が期待される。 ブランクマスクは半導体露光工程に使用されるフォトマスク原材料だ。 先月はCMP（Chemical Mechanical Polishing）パッド工場の設立ニュースを伝えた。 半導体ウェハー表面を研磨して平坦化する素材だ。
SKシルトロンはロジック用７ナノメートル（nm）エピテクシャル（Ｅｐｉｔａｘｉａｌ）ウェハーを開発し、顧客企業に納品している。 委託生産（ファウンドリ）ラインで活用されている。 日本のSUMCOが掌握した市場だ。
これらの会社の善戦はSKハイニックスに肯定的だ。 素材の需給先の多角化を通じてコスト削減、供給安定性の確保などが期待できる。 同じ系列会社であるだけに、関連協業も容易だ。
半導体業界の関係者は「SKグループが半導体素材事業を強化する部分はSKハイニックスだけでなく、国内業界にも好材料」とし、「日本に偏った供給ルートを多様に持ち込むことができるからだ。 サムスン電子と素材・部品・装置メーカーにも嬉しいニュースだ」と分析した。
Source: かんこく！韓国の反応翻訳ブログ
