サムスン、ファウンドリ1位勝負…最先端EUV装置15台を追加発注
・ASML社のEUV露光装置3年以内に15台の購入意思伝達
・1台当たり2000億ウォン相当、合計3兆ウォン投入
・ファウンドリ1位、台湾TSMC追い越しのための先制投資
・2030年のシステム半導体1位跳躍の足場
[ヘラルド経済=チョン・イソン記者]サムスン電子が次世代産業として集中的に育成しているファウンドリ（半導体受託生産）事業で「絶対強者」、台湾TSMCを追い越すための戦略を本格化した。微細化の限界を克服する重要な機器である極紫外線（EUV）露光装置15台を3年以内に追加購入する手順に入った。EUV露光装置は、1台当たりの価格が2000億ウォンに達する最高半導体製造装置である。
サムスン電子が今後3年以内にこれらの機器の供給を受けEUVライン設備投資を加速すると、TSMC中心のファウンドリ市場の支配権を覆す踏み台になると分析される。
15日、半導体業界によると、サムスン電子は最近、世界1位の半導体装置の会社である、オランダのASMLの3兆ウォン規模の最新EUV露光装置15台を3年以内に買うというの購入意向書（LOI・Letter of intent）を伝達した。ASMLは、世界唯一無二のEUV露光装置の供給会社である。
露光とは、半導体ウェハーディスク上の光を照射し、回路パターンを刻む工程をいう。EUV露光装置は、従来のフッ化アルゴン（ArF）より波長が短いEUVを光源として使用して、より微細な回路を描くことができる。特に線幅5ナノメートル（㎚・1㎚は10億分の1m）工程からEUV装置が不可欠である。
サムスン電子は今年4月、世界初のEUVを適用した7ナノプロセス製品を量産し始めた。EUVを用いたサムスン電子の7ナノ工程を適用すると、既存の10㎚工程に比べ、同じウェハーで生産することができる半導体の数が40％増える。
TSMCも今年に入って7ナノ工程を導入したが、サムスン電子の方式とは質が違う。EUV露光装置を使わずに、既存のフッ化アルゴン装備で回路を何回も描く方式を使用している。
業界関係者は、「ファウンドリ後発走者であるサムスン電子がEUV露光装置への先制投資で、TSMCより進んだ技術を確保し、大手顧客を誘致する戦略を練ったものと見られる」と述べた。現在、世界のファウンドリ市場はTSMCがシェア50.5％で「不動の1位」であり、サムスン電子は18.5％で猛追している。
特に、今回のサムスンのEUV装置追加発注はメモリー半導体であるDRAM価格が底を脱出し業況の回復が可視化する状況での果敢な投資で、メモリだけでなく、非メモリでも世界1位を達成するという「イ・ジェヨン式半導体超格差戦略」が反映されたものと解釈される。
サムスン電子は、2030年までに133兆ウォンを投資してファウンドリなどのシステム半導体で世界1位を達成する計画だ。
イ副会長は今年4月の京畿道華城キャンパスでムン・ジェイン大統領が出席した中で開かれた7ナノ半導体出荷式で「半導体は産業のコメと呼ばれたが、既にデータ基盤の4次産業革命時代には巨大な世の中を動かす小さいエンジンであり、私たちの未来を開いて行くのに必ず必要な動力」とし「メモリに続きファウンドリを含むシステム半導体分野でも確実に1位になる」と述べている。
サムスン電子の関係者は「ファウンドリ事業拡大のために多角的な努力を傾けており、どうしても装備投資関連の内容を具体的に確認するのは難しい」と述べた。
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Source: かんこく！韓国の反応翻訳ブログ
